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退火炉

2018/05/02 点击量:205

聚酰亚胺出产设备退火炉是在半导体器材制作中运用的一种工艺,其包含加热多个半导体晶片以影响其电功能。热处理是针对不同的作用而规划的。能够加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使细密堆积的薄膜,改动成长的薄膜的状况,修正注入的损害,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。
退火炉能够集成到其他炉子处理过程中,例如氧化,或者能够自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而规划的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,选用纤维结构,节电60%。

退火炉使用现场图